UV-LED显微投影光刻

  光学制作技能关于出产光学和光子器材必不可少。曩昔几十年，跟着光学器材小型化和集成化需求的一向增加，用以加工微纳光学光子器材的光学制作技能也得到了广泛的开展。

  在实验室规划上，现在可经过比方双光子光刻、电子束光刻或离子束光刻等技能来制备高精度微纳米元件，但相应的加工体系一般十分贵重且加工功率不够高。

  纳米压印技能可以以高产量完成高分辨率的结构。但是，这项技能需求高精度的母版，这导致额定的本钱和时刻投入。

  光学触摸光刻和投影光刻技能也被开发用于微纳米光学结构的制备，但这一些办法现在只能完成微米级的分辨率，更高精度的光学加工仍然面对应战。

  为了完成低本钱的高精度光学加工，德国汉诺威大学的郑蕾博士地点研讨团队提出了一种以UV-LED为光源，经过规范光学元件和显微物镜将图画转移到基板上的投影光刻办法UV-LED显微镜投影光刻（MPP），并基于此开发了一套简略、低本钱、易操作的 MPP设备（如图1a所示），完成快速且高分辨率的2D微纳光学器材加工。

  为了可以更方便地制备加工所需的模板，研讨人员也开发了一套涵盖了从结构设计及打印，铬掩模版制备到MPP加工光学器材的完好工序（示意图如图1b所示）。

  第三步是将制备好的铬掩模版放入到MPP设备中进行微纳加工，经过投影光刻将掩模版上的图画缩小必定倍数（由显微物镜倍数决议）转移到旋涂了光敏聚合物的基底上。

  本文对比了喷墨打印机和光绘图仪在第一步中将图画打印至通明薄片上的功能体现，依此对打印工序进行了优化。在制备铬掩模版时，研讨人员对比了分别用一般非球面透镜和Tessar镜头将通明薄片上结构图画转移至空白铬掩模版后的精度和质量，并对这个工序的光学体系来进行优化。使用制备好的掩模版，研讨人员可使用MPP 加工终究的光学结构。

  为了探究该办法的高精度加工功能，研讨人员加工了不同特征尺度的单线纳米的特征尺度。

  一起，研讨人员也采用了不同价位/厂商，不同NA值的物镜来加工光栅结构，以验证该办法在高精度微纳加工中的稳定性和可靠性。（来历：先进制作微信大众号）